磁性光学材料
用途：磁性光学材料
YIG
製品情報
YIG（イットリウム鉄ガーネットY3Fe5O12）は、磁気特性を持つガーネット型フェライトという結晶で、優れた光学特性やマイクロ波特性を持つ材料です。FZ法（Floating zone method：浮遊帯域溶融法）を用いた独自の製造プロセスにより、高純度な単結晶製品を実現しています。高純度YIG単結晶は、光アイソレータや磁気共鳴フィルタなどの通信機器向け部品に使用されています。単結晶の一貫生産技術を活かして、特殊な元素置換も可能ですので、ぜひお気軽にご相談ください。
製品仕様に関しましてはオーダーメイドで承ります。お気軽にお問い合わせください。
半導体用材料
用途：GaN用基板
STウェーハ
製品情報
STウェーハとは、シリコンにBとGeを同時添加することで結晶中の転位の伝播を抑制し、機械的強度を向上させたシリコン単結晶ウェーハです。熱衝撃にも強く、高温の処理やエピタキシャル成長時におけるスリップ、反りの抑制効果が高いといった特性を有しています。近年注目されている窒化ガリウム(GaN)などのヘテロエピタキシャル成長に最も適した基板としてご使用いただけます。
用途：MEMS用途
高平坦度ウェーハ
製品情報
MEMS・Filterに多く用いられる4inch・6inch Siウェーハを高平坦化しています。
TTV≦0.3um 凹凸形状制御、傾き制御の加工技術を用い、複合SUBSTRATE基準のDevice層のUniformity向上に貢献できます。
外周1mmまで形状保証する事も可能です。（ESFQR保証も可能）
SEMI・JEITA以外の厚みも対応させていただきますのでプロセス簡素化にお役に立てるSiウェーハです。
用途：フォトニクス用途
厚酸化膜ウェーハ
製品情報
≦15umシリコン熱酸膜品をご提供いたします。
従来熱拡散酸化膜では得られない膜厚と均一性を実現しており、安定した屈折率から光デバイスに適した膜質です。
光デバイス・高絶縁層など様々な用途で用いることが可能です。酸化膜成長させるSi-ウェーハもご要望にあった特性で対応させていただきます。
遠赤外線材料
HTウェーハ
製品情報
本開発品は従来の半導体用シリコン単結晶と同じ製造法であるにもかかわらず、遠赤外線領域における人体検知に必要な9μmの透過率低下を改善したシリコン結晶材料です。そのためゲルマニウムなど他の遠赤外線透過材料と比べて低コストであり、車載用ナイトビジョンカメラや監視用赤外線カメラのレンズや窓材に使用可能な安価かつ量産に適した材料となります。
赤外線FZシリコン
製品情報
Coming soon...
ゲルマニウム材
製品情報
当社では、低純度なゲルマニウム加工スクラップ屑を回収し、5N(99.999%)以上の高純度なゲルマニウムへと精製しています。精製したゲルマニウム結晶は、合金用原料、ターゲット材、蒸着材用母材等に適した材料となります。